По оценкам экспертов, стоимость входящих в ППМ МИС составляет 60–80% от стоимости всего модуля. Согласно прогнозам, потребность АФАР в ППМ, а следовательно, и в МИС, будет быстро нарастать. Ожидается, что объем продаж ППМ для авиационно-бортовых АФАР вырастет к 2014 году в три раза. И это без учета таких новых проектируемых систем, как авиационная система дозора LEMV, прототип которой будет содержать до сотни тысяч модулей, а окончательная система – до 7 млн. [1]. Сегодня многочисленные ППМ для АФАР, которые уже вошли в состав радиолокационных комплексов различного назначения, значительно расширив их функциональные возможности, выполнены в основном на GaAs МИС.
Технология GaAs МИС формировалась в 1980–1990-е годы, когда различные компании стремились организовать собственное GaAs-производство [2]. Однако сейчас многие из них для изготовления МИС частично или полностью пользуются услугами специализированных контрактных производств – так называемых foundries. Ведущие контрактные производители на мировом рынке GaAs-микросхем – компании TriQuint Semiconductor (37% рынка) и WIN Semiconductor (36%). На долю Advanced Wireless Semiconductor (AWSC) приходится 12% рынка, Global Communication Semiconductor (GCS) – 6%. Продукция этих компаний предназначена в основном для массового рынка МИС для различных устройств и систем мобильной связи. Наиболее крупные европейские компании – United Monolithic Semiconductor (UMS) и ОММIC – специализируются главным образом на мелкосерийном выпуске схем аэрокосмического и военного назначения, но вместе с тем стремятся расширить свое присутствие на глобальном рынке GaAs МИС. Так, компания UMS открыла дизайн-центр в Бостоне и офис по продажам в Шанхае.
Наиболее крупные компании-foundries обрабатывают GaAs-пластины диаметром 150 мм и выполняют заказ в течение шести-восьми недель. Компания WIN гарантирует исполнение заказа в срок от 23 до 48 календарных дней. Некоторые компании с небольшим объемом выпуска сохраняют производственные линии по обработке пластин диаметром 100 мм. Типичная производительность foundries – от нескольких сотен до нескольких тысяч пластин в месяц. Многие контрактные производители помимо выпуска МИС оказывают различные услуги в проектировании, моделировании, корпусировании и испытаниях. При этом сами они пользуются услугами других специализированных компаний по программному обеспечению, графическим системам и т.п.
Ряд крупных компаний, таких как Northrop Grumman, Cobham, Raytheon, BAE Systems, которые имеют собственное производство МИС и одновременно участвуют в больших правительственных программах по созданию радиоэлектронных систем вооружений, тоже предлагают специальные услуги. К менее крупным компаниям, имеющим собственные производственные мощности, относятся M/A-COM Technology Solutions, Skyworks, Anadigics, Avago, RFMD и Eudyna/Sumitomo. Как правило, каждая такая компания помимо разработки новых технологических процессов владеет и определенным числом отработанных и сертифицированных процессов, которые она предлагает заказчику (табл.1).
На рынке в основном представлены GaAs МИС для мобильных систем связи [3]. Однако не все компании выдерживают существующую здесь жесткую конкуренцию. Так, одна из успешных британских компаний Filtronic Compound Semiconductors, выпускавшая GaAs МИС СВЧ на 150-мм пластинах и владевшая технологией производства полупроводниковых приборов миллиметрового диапазона, была продана в 2008 году за 12,5 млн. фунтов (стоимость трансфера среднего европейского футболиста).
Рост потребности в ППМ для АФАР открывает новые возможности перед компаниями, разрабатывающими GaAs-микросхемы. МИС для ППМ изготавливаются по заказу или входят в номенклатуру уже готовых к продаже изделий в виде однофункциональных микросхем (усилители, аттенюаторы, фазовращатели, переключатели и др.) и наборов МИС или многофункциональных схем, включающих блоки управления.
Готовая продукция. Французское отделение компании UMS предлагает полный комплект ППМ X-диапазона [4]. В него входят микросхема двухкаскадного малошумящего усилителя (МШУ) СНА1014, многофункциональная управляющая схема-ядро модуля (core chip) СНА3014 и трехкаскадные усилители мощности СНА7115 и СНА7215, совместимые со схемой ядра. Все микросхемы изготавливаются с помощью собственных технологических процессов компании, отвечающих требованиям к производству изделий космического назначения. Микросхема МШУ и схема ядра выполнены на основе РНЕМТ с длиной затвора 0,25 мкм и одним подзатворным углублением. Одна схема усилителя мощности выполнена на основе 0,25-мкм РНЕМТ с двойным подзатворным углублением, обеспечивающим плотность мощности 850 мВт/мм, вторая – на основе GaInР/GaAs HBT с плотностью мощности 3,5 Вт/мм и высоким КПД.
Рабочий диапазон частот микросхемы МШУ составляет 7–14 ГГц. Она согласована с сопротивлением 50 Ом, что позволяет использовать ее совместно с МИС ядра или в устройствах общего назначения. В состав микросхемы входят два усилительных каскада и схема компенсации технологических разбросов. Усилитель имеет очень плоскую характеристику усиления (17 дБ), коэффициент шума 1,5 дБ и выходную мощность 10 дБм при компрессии усиления 1 дБ.
Управляющая схема СНС3014 площадью 22,7 мм2 включает:
Линейное усиление усилителей мощности равно 28 дБ и полоса пропускания – 30%. Выходная мощность СНА7115 – 8 Вт, СНА7215 – 9 Вт при КПД 40 и 35% и площади 15,2 и 16,55 мм2, соответственно.
Широкое применение АФАР ограничивает высокая стоимость СВЧ-компонентов – полупроводниковых, пассивных и, конечно, модулей. Для построения достаточно дешевых модулей АФАР РЛС коммерческого и гражданского назначения компания M/A-COM Technology Solutions использует следующие технологические решения [5]:
недорогой процесс изготовления GaAs pHEMT, предназначенный для массового производства МИС и предусматривающий формирование Т-образного 0,5-мкм затвора GaAs pHEMT методом фотолитографии; сборка МИС в стандартные пластиковые корпуса; поверхностный монтаж МИС на стандартные печатные платы. Предлагаемый процесс оптимизирован и обеспечивает хорошие характеристики приборов различного функционального назначения – малошумящих и мощных усилителей, аттенюаторов, фазовращателей, переключателей. Он позволяет изготавливать на пластине толщиной 50 мкм все необходимые пассивные компоненты, в том числе конденсаторы емкостью 400 и 800 пФ/мм2, индуктивности с малыми потерями, резисторы с сопротивлением 20 и 50 Ом/□. Схема защищена пленкой бензоциклобутена (ВСВ). Пока с помощью процесса реализованы только МИС на частоты 1–4 ГГц (рис.1, 2). При переходе на более высокие частоты Х- и Кu-диапазонов потребуются 0,25-мкм GaAs HEMT и более сложная технология.
Снизить стоимость модуля можно и за счет сокращения в нем числа микросхем, т.е. путем увеличения их функциональности. Многофункциональную GaAs МИС-ядро XZ1002-BD предлагает тайваньская компания M/A-COM Tech Asia (рис.3) [6]. Микросхема содержит переключатели режимов приема/передачи, МШУ, шестиразрядный фазовращатель, пятиразрядный аттенюатор (АТТ), усилители ПЧ (У1 и У2) и усилитель средней мощности (УМ). В микросхему также входит КМОП-блок управляющей логики и схемы управления смещением затворов транзисторов. Благодаря тщательно подобранному балансу параметров фазовращателя и аттенюатора можно оптимизировать характеристики модуля, не прибегая к дополнительной цифровой обработке.
МИС предназначена для работы в диапазоне частот 8,5–11 ГГц. В режиме приема ее коэффициент шума составляет 5,2 дБ, коэффициент усиления – 21 дБ и мощность в точке пересечения с третьей гармоникой – 28 дБм. В передающем режиме коэффициент усиления схемы – 22 дБ, а мощность насыщения – 23 дБм. В режиме приема ослабление, вносимое аттенюатором, может достигать 28,5 дБ при 32 возможных состояниях. На частоте 10 ГГц среднеквадратичная ошибка установки ослабления равна 0,3 дБ, среднеквадратичная фазовая ошибка – 1,5°, при этом диапазон изменения фазы фазовращателя достигает 360° при 64 состояниях.
Микросхема XZ1002-BD объединяет до 10 функций и позволяет реализовать ППМ всего на трех кристаллах, добавив к XZ1002-BD микросхемы 10-Вт усилителя мощности ХР1006-BD и МШУ XL5017-BD, выпускаемых той же компанией. Это позволяет упростить конструкцию модуля, уменьшить число компонентов, сократить размеры несущей платы, повысить надежность, облегчить контроль параметров и снизить стоимость модуля. Возможна также поставка циркуляторов и ограничителей, производимых головной компанией M/A-COM Technology Solutions. Чтобы облегчить и ускорить разработку модуля, микросхема XZ1002-BD может поставляться со специальной управляющей платой, работа которой задается ПК. Компания M/A-COM Tech Asia проводит 100%-ный контроль микросхем XZ1002-BD на пластине по СВЧ и постоянному току, тестирование по мощности, а также 100%-ный визуальный осмотр в соответствии с военным стандартом MIL-STD-883, метод 2010. Микросхема предназначена для АФАР военных и метеоРЛС, а также систем связи.
Ряд компаний не ограничиваются выпуском отдельных схем или комплектов МИС для ППМ АФАР, а готовы поставлять их полностью. Так, европейское отделение компании Cobham Sensor Systems предлагает демонстрационный образец ППМ Х-диапазона размером 60,8×13×5,7 мм (рис.4) со следующими параметрами [7]:
Диапазон частот, ГГц 9–11
Выходная импульсная мощность, Вт 8,5
Особенности изготовления СВЧ МИС с применением фотолака при формировании заземляющей плоскости над активной поверхностью кристалла
В последнее десятилетие серьезное внимание в электронике уделяется разработке элементной базы СВЧ — техники и силовой электроники на основе нитридных соединений элементов III группы. Развитие указанных приборов определяется необходимостью освоения новых, более высоких частотных диапазонов, повышения мощности приборов, линейности их характеристик и улучшения эффективности.
Перспективы разработки следующего поколения СВЧ-техники связаны с прогрессом в развитии СВЧ-транзисторов и монолитных интегральных схем (МИС) на основе нитрида галлия (GaN), что обусловлено следующими преимуществами материала:
На данный момент МИС на GaN преимущественно проектируют с помощью копланарной технологии, в то время как на GaAs используют как копланарную технологию, так и микрополосок. Пластины арсенида галлия легко утоняются и хорошо плазмохимически травятся, а гетероструктуры нитрида галлия растят преимущественно на особо твердых подложках — сапфира и карбида кремния, что вызывает серьезные трудности при обработке материала подложки [2, 3].
Одной из основных технологических трудностей является формирование заземляющих отверстий в подложке, как видно из таблицы 1, подложки сапфира и карбида кремния тяжело травятся плазмохимически.
Таблица 1. Характерные параметры ICP-травления наиболее применяемых подложек для СВЧ МИС
Материал
Скорость травления
Селективность к ФР
Для преодоления данных ограничений предложено конструкторско-технологическое решение [5, 6] заключающееся в размещении земляной плоскости не на обратной стороне пластины, а на лицевой, поверх активной части МИС через слой фоточувствительного полимера (рис. 1).
Рис. 1. Поперечное сечение пластины с межэлектрическими соединениями, обеспечивающими общую заземляющую плоскость
Данные полимеры должны отличаться хорошей адгезией к подложкам и материалам поликор, сапфир, GaAs, Al/Si, Cr/Si, Au/Si/Ni/Si, обладать хорошими планаризующими свойствами, иметь высокую химическую стойкость к органическим и неорганическим соединениям, температурную стабильность до +350 °C, низкую диэлектрическую проницаемость. Указанными характеристиками обладают полиимиды и их аналоги [7].
Применение этих фотополимеров не требует специального оборудования, работа с ними осуществляется на стандартных установках нанесения фоторезистов и литографических установках [8, 9]. В случае необходимости рисунок на фотополимере можно формировать при помощи кислородной плазмы. Благодаря этому удается решить проблему формирования заземляющей плоскости без привлечения дополнительного дорогостоящего оборудования.
При использовании полиимида в технологическом процессе возникает ряд сложностей — существенное влагопоглощение, большой коэффициент теплового расширения, требовательность к температурному режиму хранения (+23 °C — 1 мес.; –16 °C — 9 мес.), малый срок годности готового фоточувствительного полиимида. Однако был найден отечественный аналог полиимида — фотолак термостойкий прозрачный (ФЛТП), изготовленный в ИВС РАН. Его основные преимущества: длительный срок хранения при комнатной температуре (+23 °C — 6 мес.), возможность гибкого изменения характеристик под нужды заказчика [10, 11].
Особенности изготовления СВЧ МИС с применением фотолака
Для определения тепловых режимов работы СВЧ МИС с верхней «землей» было проведено математическое моделирование тепловых процессов, проходящих в СВЧ МИС, методом конечных элементов.
СВЧ МИС представляет собой усилитель мощности, основным элементов которого является восьмизатворный транзистор. Кристалл МИС с изображенными на нем источниками тепла — подзатворными областями Q — схематично приведен на рис. 2.
Рис. 2. Модель кристалла СВЧ МИС, где 2DEG — двумерный электронный газ, Q — область, выделяющая тепло
В данной тепловой модели транзистора источником тепла служит подзатворная часть канала Q.
Контакт между слоями задан идеальным. Выделенная красным область была задана как объект, генерирующий тепло.
В расчетах использовалось уравнение теплопроводности:
где qv — мощность внутреннего источника тепла; λ — коэффициент теплопроводности; ρ — плотность вещества; Cp — теплоемкость вещества при постоянном давлении; T — температура в процессе работы.
Данное дифференциальное уравнение (1) решается методом конечных элементов при граничных условиях третьего рода:
где α — коэффициент теплоотдачи; Тс — температура окружающего пространства; n — модуль вектора нормали.
Свойства материалов, послужившие в качестве исходных данных для компьютерного моделирования, представлены в таблице 2.
Таблица 2. Свойства материалов СВЧ МИС
Материал
Функция в модели
Плотность, кг/м 3
Теплопроводность, Вт/м•K
Теплоемкость, Дж/кг•K
В расчетах были приняты следующие условия:
Результаты расчетов представлены на рис. 3.
Рис. 3. Поверхностное распределение температуры в модели: а) без ФЛТП; б) с покрытием ФЛТП. Распределение температуры на поверхности МИС в районе затворов в модели: в) без ФЛТП; г) с покрытием ФЛТП
Максимальный нагрев активной области транзистора в случае добавления ФЛТП уменьшился на 0,5%. Такое незначительное изменение связано с тем, что ФЛТП имеет низкую теплопроводность, что минимизирует количество отводимого им тепла.
Согласно результатам моделирования, введение в трехмерную модель ФЛТП существенно не влияет на максимальный нагрев подзатворной области. В случае модели с применением ФЛТП максимальный нагрев достиг +122,1 °C, а в случае без ФЛТП +122,4 °C, что составило менее 0,1%.
Одна из особенностей изготовления СВЧ МИС с применением ФЛТП — утонение и разделение пластины на кристаллы. Это связано с развитым рельефом поверхности пластины со сформированными СВЧ МИС, который нуждается в защитных слоях при проведении процесса утонения пластины.
Для обеспечения защиты лицевой поверхности пластины было предложено и опробовано решение, показанное на рис. 4.
Рис. 4. Порядок приклеивания приборных пластин сапфира и карбида кремния с изготовленными на них СВЧ МИС на гетероструктурах AlGaN/GaN на диск-носитель
Представленное решение обеспечивает химическую и температурную совместимость защитного и клеящего полимера, что создает надежную защиту СВЧ МИС при операциях монтажа пластины на диск-носитель и при шлифовке и полировке пластины. В результате операции шлифовки и полировки пластины диаметром 2 дюйма разброс по толщине не превышает 2 мкм, а шероховатость после полировки Ra — 1,86 нм.
Для операции разделения пластины на отдельные МИС был использован ЛУТ — метод лазерного управляемого термораскалывания (рис. 5). Как сказано нами в ранее опубликованной статье [12], «для обеспечения резки в первом направлении (I) на краю пластины наносятся короткие надрезы (3), которые являются концентраторами напряжений и обеспечивают зарождение и продвижение разделяющих трещин (4). Перед резкой во втором направлении (II), чтобы получить сквозные разделяющие трещины (5) при помощи сфокусированного луча УФ-лазера (7) с длиной волны 355 нм наносят неглубокий надрез (6) по всей длине реза либо в местах пересечений с линиями реза (4). Глубина и ширина надреза составляет соответственно 5–9 мкм и 5–7 мкм. Нагревая линию надреза (6) лазерным лучом (8) при помощи СО2‑лазера мощностью до 50 Вт и затем охлаждая зону нагрева хладагентом (9), получаем сквозную разделяющую трещину (5). Скорость резки методом ЛУТ сапфировой пластины достигала 400–450 мм/с».
Рис. 5. Схема разделения приборных пластин со сформированными МИС на кристаллы методом ЛУТ
По результатам использования метода ЛУТ были рассчитаны ключевые параметры процесса резки — для дорожки реза шириной 200 мкм выход годных при резке пластины составил не менее 92%.
В ИСВЧПЭ РАН изготовлены образцы МИС СВЧ для диапазонов 57–64 и 32–36 ГГц с применением топологического решения в виде «земляной» плоскости над активной поверхностью МИС, с использованием фотолака. Данные образцы успешно прошли испытания на стойкость к специальным факторам 7.И1, 7.И6 (7.И8), 7.И7, К12 [13].
Авторы считают, что в настоящей работе новыми являются следующие положения и результаты: предложен метод формирования заземляющей плоскости для МИС на основе гетероструктур AlGaN/GaN на особо твердых подложках. Представлен отечественный аналог полиимида, для которого проведены расчеты теплового режима активных элементов СВЧ МИС. Эти приборы успешно прошли испытания на специальные факторы (7.И1, 7.И6 (7.И8), 7.И7, К12) без кратковременной потери работоспособности, что показывает применимость фотолака для изготовления радиационно стойкой ЭКБ.
Монолитные интегральные схемы СВЧ: взгляд изнутри
В последнее время монолитные интегральные схемы (далее по тексту МИС СВЧ, в англоязычной литературе MMIC — Monolithic Microwave Integrated Circuit) получили широкое распространение не только в военной, но и в гражданской технике, особенно в сотовой телефонии. Основными причинами являются бурное развитие высокоскоростных широкополосных систем передачи данных при постоянной потребности снижения массо-габаритных параметров изделий.
Созданию МИС СВЧ способствовало множество достижений в интегральной технологии XX века, однако с определенной долей достоверности можно сказать, что прототипом современной МИС СВЧ была идея, озвученная и запатентованная (патент США № 2981877) в 1961 году Робертом Нойсом, работавшим в то время в компании Fairchild. Он создал микросхему с планарной структурой, в качестве подложки используя кремний. Планарные диффузионные биполярные кремниевые транзисторы и резисторы Нойс соединял между собой тонкими алюминиевыми полосками, лежащими на пассивирующем оксиде кремния. Для изготовления этих полосок был использован традиционный процесс, включающий напыление металлического слоя и фотолитографию с последующим химическим травлением металла. Позже сверхвысокочастотные МИС стали изготавливать на основе полупроводниковых кристаллов из арсенида галлия, который и по сей день занимает лидирующие позиции как материал для производства МИС СВЧ (более 80% монолитных микросхем выполняются на подложках из арсенида галлия и тройных полупроводников на его основе: AlGaAs и InGaAs). Достоинствами арсенида галлия являются высокая подвижность электронов, широкая запрещенная зона, весьма широкий диапазон рабочих температур, достаточно удобная возможность получения полуизолирующего GaAs¹, хорошие оптические характеристики, низкая потребляемая мощность. Благодаря высокой подвижности электронов МИС СВЧ на арсениде галлия могут быть использованы в диапазоне от 1 ГГц до 100 ГГц. Исторически первыми применениями таких МИС были военные и гражданские РЛС, спутниковые системы связи и навигации, средства связи и т. п. Пожалуй, с некоторой долей уверенности можно утверждать, что если на этапе становления монолитных интегральных схем двигателем их дальнейшего развития была необходимость повышения надежности устройств (военная техника), то сейчас, в основном, этой движущей силой являются постоянно растущие требования рынка по снижению габаритов изделий (в частности, сотовых телефонов, средств навигации и т. п.), однако и надежность тоже не на последнем месте.
¹ Конечно, не настолько удобная, как получение изолирующего оксида кремния простым окислением.
Монолитные ИС чаще всего используются в СВЧ-диапазоне в приложениях, где необходимы небольшие размеры и высокая надежность. Примерами систем на базе МИС могут служить приемники и передатчики систем связи, фазированные антенные решетки (ФАР), датчики, работающие на сверхвысоких частотах и т. п. В последнее время МИС широко используются в сотовой и спутниковой телефонии, устройствах глобального позиционирования GPS. Успехи в технологии МИС стали широко использоваться и в производстве дискретных компонентов, что более всего относится к биполярным гетеротранзисторам, выполняемым по технологии МИС. Эти транзисторы уже давно пользуются большим спросом у производителей профессиональных средств связи.
Характерным признаком монолитных ИС является их низкая степень интеграции в сравнении с цифровыми микросхемами. Монолитная ИС обычно представляет собой функционально законченное устройство, не требующее использования каких-либо внешних задающих и подстроечных элементов. Примеры конструкций монолитных микросхем СВЧ приведены на рис. 1.
Наиболее типичными МИС являются малошумящие усилители, смесители, усилители мощности, модуляторы и т. д. Из вышесказанного отчетливо видно, что на основе перечисленных МИС легко построить устройство более высокого уровня, например, приемник. При этом, поскольку приемник будет содержать порядка единиц составных элементов (МИС не требуют внешних компонентов), и в связи с тем, что МИС имеет довольно высокую наработку на отказ, надежность такого приемника будет весьма высокой, недостижимой при его реализации с аналогичными техническими характеристиками, но на дискретных компонентах. Существуют также и устройства, целиком реализованные в виде одной МИС. Ярким примером может служить МИС-приемник, выполненный на едином кристалле. Очевидно, что область применения микросхем такого типа сильно ограничена, особенно если принять во внимание то, что МИС представляет собой законченное устройство, не требующее каких-либо внешних подстроечных компонентов, и что такой приемник невозможно будет адаптировать к использованию, например, в другом частотном диапазоне. С другой стороны, если предусмотреть внешние элементы подстройки, то теряются преимущества от использования МИС. Конечно, о массовости таких микросхем не может идти и речи, и единственными областями применения таких МИС являются космическая и военная техника, где на первом плане стоит надежность прибора, а не его цена. В связи с единичным типом производства микросхем такого типа здесь не представляется возможным воспользоваться хорошо отработанной методикой статистического прогнозирования средней наработки на отказ и встает другая проблема, связанная с прогнозированием индивидуальной надежности микросхемы.
В период с 1999 по 2004 год объем продаж монолитных ИС увеличился практически вдвое. Кроме того, заметна тенденция увеличения доли продаж МИС в коммерческой, а не военной области. Пожалуй, основной причиной этого служит интенсивно развивающийся рынок беспроводных систем связи и передачи данных. В связи с этим большинство производителей полупроводниковых пластин (Vitesse, Kopin, TriQuent, Conexant, M/A-COM, RF Micro Devices, ATMI, Motorola) существенно расширили объемы производства пластин из арсенида галлия диаметром 150 мм.
Материалы МИС СВЧ
В процессе эволюции технологии производства МИС прогрессировала и их конструкция. Примерно в то время, когда появился биполярный транзистор с гетеропереходом, выполненный по технологии МИС, возник интерес к использованию и других материалов для производства монолитных микросхем. Этот интерес в первую очередь был вызван необходимостью реализации микросхем, работающих на более высоких частотах. В качестве таких материалов было предложено использовать полупроводниковые соединения вида А3В5. Для базы и коллектора было использовано тройное соединение InGaAs, а эмиттер и коллектор выполняли на фосфиде индия InP. Использование фосфида индия InP позволило улучшить частотные характеристики и увеличить пробивное напряжение коллектора. Поскольку ширина запрещенной зоны InP больше, чем у In 0,53Ga 0,47As (1,35 эВ и 0,75 эВ соответственно), то напряжение пробоя коллекторного гетероперехода составляет не менее 6 B. На данный момент существует большое разнообразие комбинаций материалов эмиттера, базы и коллектора, и тема выбора материала МИС с точки зрения поиска оптимума в конструкции и в технологии изготовления заслуживает рассмотрения в отдельной статье, поэтому отметим лишь, что наибольшее распространение получили n-p-n транзисторные гетероструктуры типа InAlAs–InGaAs–InP и InP–InGaAs–InP. Использование таких материалов вкупе со снижением толщины базы, которое стало возможным благодаря интенсивному развитию технологии молекулярно-лучевой эпитаксии, позволяет добиться работы транзистора на граничной частоте до 250 ГГц!
Другим популярным материалом для изготовления МИС СВЧ служит нитрид галлия. СВЧ-приборы на основе нитрида галлия позволяют добиться больших значений удельной плотности выходной мощности. Например, компанией Cree был разработан GaN полевой транзистор с барьером Шоттки с затвором длиной 0,55 мкм и шириной 0,25 мкм, выходная мощность которого в непрерывном режиме на частоте 4 ГГц составляла 8 Вт. Соответственно, удельная выходная мощность такого транзистора равна 33 Вт/мм. При том, что рабочее напряжение «исток–сток» составляло 120 В, максимальная плотность тока в канале достигала 1,2 А/мм.
Активные элементы МИС и их надежность
Основным активным элементом МИС с момента их появления и до настоящего времени является полевой транзистор с барьером Шоттки (MESFET). Однако все возрастающие требования приводят к невозможности их использования в некоторых приложениях. Это связано со сложностью повышения быстродействия MESFET посредством уменьшения длины затвора. Поэтому в последнее время получили распространение транзисторы с повышенной подвижностью электронов и псевдоморфные (HEMT/PHEMT), а также биполярные гетеротранзисторы (HBT). Диаграмма, показывающая частоты, при которых могут использоваться соответствующие приборы, показана на рис. 2.
Рассмотрим подробнее перечисленные активные элементы МИС СВЧ.
Полевые транзисторы с барьером Шоттки (MESFET)
Первый арсенидгаллиевый полевой транзистор с барьером Шоттки появился в 1963 году. Это стало возможным благодаря разработанному фирмой GEC Marconi Material Technology процессу контролируемого выращивания высокочистых тонких пленок на полупроводниковом арсениде галлия.
Конструкция MESFET
Базовая структура MESFET приведена на рис. 3.
Базовым материалом является подложка из арсенида галлия. Буферный слой эпитаксиально выращивается на полуизолирующей подложке и служит для изоляции дефектов в подложке от рабочей части транзистора. Канал является тонким, слегка легированным проводящим слоем полупроводникового материала, эпитаксиально выращенным на буферном слое. Высоколегированные области, показанные на схеме, необходимы для обеспечения низкого омического сопротивления контактов транзистора.
Эквивалентная схема и типовая вольт-амперная характеристика полевого транзистора с барьером Шоттки приведена на рис. 4.
Напряжение отсечки такого транзистора можно определить по следующей формуле:
где q — заряд электрона; Nd — концентрация донорной примеси; ε0, εr — элекрическая проницаемость; a — глубина канала.
Ток стока подчиняется следующей зависимости:
где ν(x)— скорость электронов; Z — ширина канала; b(x) — эффективная глубина канала; q — заряд электрона; n(x) — концентрация электронов.
Как было сказано выше, под затвором формируется обедненная область. Тем самым снижается эффективная глубина канала b(x) и, соответственно, увеличивается сопротивление проходящему под затвором току. Глубина обедненной области зависит от падения напряжения на барьере Шоттки. Поскольку ток через канал равен току через распределенный резистор, между стоком и истоком возникает повышенное падение напряжения, что приводит к увеличению обедненной области в канале на стороне стока. Неоднородность этой глубины имеет два последствия для работы устройства.
Во-первых, происходит накопление электронов на стороне истока и обеднение электронами области со стороны стока. Этот заряженный диполь создает емкостную обратную связь между стоком и каналом (в англоязычной литературе эта емкость обычно обозначается как CDC). Во-вторых, возникает электрическое поле, приводящее к снижению напряжения насыщения транзистора. Глубина обедненной области и, соответственно, сопротивление току между истоком и стоком, а также ток насыщения могут изменяться приложением смещения к затвору. Если это отрицательное смещение достаточно велико, глубина обеденной области будет равна глубине канала. Таким образом, транзистор может работать как управляемый напряжением резистор или переключатель. Последнее часто используется в высокоскоростных цифровых блоках микросхем. В МИС же в основном используется свойство MESFET усиливать мощность.
Оценим максимальную рабочую частоту такого транзистора. Она определяется временем пролета электронов через канал и может быть вычислена следующим образом:
где Vsat — напряжение насыщения; τ — время пролета электронов через канал; L — длина канала.
Типовое значение Vsat ≈ 6×10 10 мкм/с для арсенида галлия с типовым уровнем легирования, обычно используемым в канале. Отсюда легко получить, что для обеспечения частоты более 10 ГГц длина затвора должна быть меньше 1 мкм. Максимальная рабочая частота может быть аппроксимирована следующим образом:
где RDS — сопротивление между стоком и стоком; RG — сопротивление затвора.
Очевидно, что для обеспечения высокого быстродействия транзистора необходимо стремиться к минимизации длины затвора, что, однако, ограничивается технологическими возможностями производства. Кроме сказанного, необходимо помнить, что для эффективного управления током канала длина канала L должна быть больше его глубины a, то есть L/a > 1. Поэтому в большинстве MESFET глубина канала составляет 0,05–0,3 мкм. Сказанное означает, что для обеспечения достаточно большого тока концентрация носителей в канале должна быть весьма велика.
Малые размеры транзисторов приводят к снижению их надежности. Это связано с малым поперечным сечением области затвора, что приводит к увеличению плотности тока. Это является обычным для мощных транзисторов, в которых основным механизмом отказа является миграция электронов. Для уменьшения сопротивления затвора обычно используется золото. Поскольку золото создает «ловушки» в арсениде галлия, которые эффективно снижают концентрацию носителя и, соответственно, ток через транзистор, должен быть использован барьерный металл, например, платина. В связи с тем, что глубина канала очень мала, любая диффузия металла затвора в арсенид галлия приводит к значительным изменениям тока, протекающего через канал, и уменьшает напряжение отсечки транзистора. Малые расстояния между затвором и стоком создают сильные электрические поля, которые могут привести к лавинной генерации электронов. Эти «горячие» электроны могут затем становиться «ловушкой» на поверхности GaAs или в пассивирующем материале, который обычно размещен на поверхности транзистора. Факторы ненадежности полевых транзисторов в большей степени принадлежат к классу технологических. В устройствах малого сигнала деградация омических контактов или взаимная диффузия металла затвора и арсенида галлия приводят к сдвигу ID, gm и Vp.
Хотя мощные MESFET тоже страдают от параметрической деградации, все же наиболее распространенными являются катастрофические (внезапные) отказы. Однако, успехи в технологии производства GaAs-приборов и обеспечение работы в пределах безопасных режимов уменьшают число отказов. Для усилителей мощности полевые транзисторы должны быть разработаны для максимальной пиковой выходной мощности. Это означает большое напряжение «сток–исток» и значительный тока стока. К сожалению, одновременно оба этих параметра не могут быть максимизированы. Поэтому на данный момент для МИС СВЧ-усилителей мощности используются биполярные гетеротранзисторы. Для увеличения тока стока требуется высокая концентрация носителей или большая ширина затвора.
Однако, не стоит забывать, что глубина канала не может быть увеличена, поскольку это приводит к уменьшению частотного диапазона работы устройства. Концентрация носителей не может быть увеличена без снижения напряжения пробоя «затвор–сток», которое необходимо максимизировать для увеличения допустимого напряжения «сток–исток». Следовательно, альтернатива одна: увеличивать ширину затвора. Однако в конструкции СВЧ-устройств линейные элементы большой длины не являются элементами с однородным потенциалом на протяжении всей длины. Основное правило заключается в том, что линия должна быть меньше десятой части длины волны, тогда ее можно рассматривать как однородный элемент. Для арсенида галлия это соотношение выглядит следующим образом:
где ƒ — частота, ГГц.
Отсюда видно, что в Х-диапазоне (8–12 ГГц) максимальная длина затвора, которая может быть использована, не превышает 1 мм. Если требуется более высокий ток, может быть использовано параллельное включение нескольких затворов. Однако плотное расположение параллельно включенных затворов приводит к увеличению локальной температуры соответствующей области МИС. В связи с тем, что арсенид галлия — плохой проводник температуры, это снижает надежность MESFET.
Технология изготовления MESFET
Типовой техпроцесс изготовления MESFET методом ионной имплантации приведен на рис. 5.
Первым шагом традиционно является изготовление тонкопленочных резисторов. Металл резистора (AuGeNi) испаряется, затем наносится TaN. AuGeNi обычно используется для изготовления низкоомных резисторов, в то время как TaN— для высокоомных.
Базовые этапы технологии приведены на рис. 6.
Вторым этапом является изолирование и формирование затвора. За счет ионной имплантации, например, бора, осуществляется деактивация проводящего слоя GaAs и формируются необходимые изолирующие области. После этого этапа осуществляют нанесение металла и формирование воздушных «мостиков». В заключение формируют переходные отверстия и осуществляют обработку обратной стороны подложки.
Транзисторы с высокой подвижностью электронов и псевдоморфные транзисторы (HEMT/PHEMT)
Как говорилось выше, в последнее время в ответственных приложениях, там, где требуются малый коэффициент шума и высокое усиление, транзисторы с высокой подвижностью электронов (HEMT) и псевдоморфные (PHEMT) транзисторы получают все большее распространение.
Оба этих транзистора относятся к классу полевых транзисторов, поэтому базовые принципы функционирования весьма схожи. Основным отличием между транзисторами с высокой подвижностью электронов и полевыми транзисторами является эпитаксиальная структура слоя.
Конструкция HEMT/PHEMT
Эпитаксиальная структура базового транзистора с высокой подвижностью электронов (HEMT) приведена на рис. 7а, псевдоморфного транзистора — на рис. 7б.
Аналогично с полевыми транзисторами с барьером Шоттки (MESFET), структура выращена на полуизолирующей подложке из GaAs при помощи молекулярно-лучевой эпитаксии (в англоязычной литературе Molecular Beam Epitaxy — MBE) или более распространенного металлоорганического испарения.
Буферный слой, обычно тоже арсенидгаллиевый, эпитаксиально выращивается на подложке, служит для изоляции дефектов и призван создать гладкую поверхность, на которой происходит выращивание активных слоев транзистора.
Канал, соответствующий стандартной структуре транзистора, показан ниже. В идеальной системе все электроны проводимости размещаются в этом канале. Наиболее важным в слое канала является двумерный электронный газ (2DEG на рис. 8), являющийся следствием различной ширины интервалов.
На надежность транзисторов HEMT и PHEMT влияют параметры эпитаксиальной структуры, процесс производства и геометрия устройства. Основными механизмами отказа являются:
Наглядное представление влияния эффекта «погружения» затвора на вольт-амперные характеристики MESFET и HEMT транзисторов приведено на рис. 9. Стрелками показано направление смещения характеристики. Как видно из рисунка, такое сильное смещение ВАХ может привести не только к выходу характеристик устройства за пределы допуска, но и в некоторых случаях к отказу активного элемента (MESFET, HEMT и др.).
Технология изготовления HEMT/PHEMT
Первым этапом процесса является тщательный отбор подложек с требуемыми характеристиками. Между технологиями изготовления HEMT и PHEMT имеются, несомненно, незначительные различия, однако в данном случае мы их рассматривать не будем, коснувшись лишь базового процесса, который для обоих приборов является одинаковым.
Типичная последовательность изготовления приведена на рис. 10.
Первым этапом является формирование активного канала и имплантация изолятора, после чего формируются омические переходы, затем осуществляется формирование углублений затвора, затем — области «затвор–металл».
После этого производят травление истока и контактов, формируют воздушные мостики, переходные отверстия и осуществляют обработку обратной стороны подложки.
Биполярные гетеротранзисторы (HBT)
Биполярные гетеротранзисторы широко используются как в цифровых, так и в аналоговых МИС на рабочих частотах выше диапазона Ku. За счет своей структуры они обеспечивают более быстрое переключение, в основном за счет уменьшенного сопротивления базы и чрезвычайно малой емкости между коллектором и подложкой. Цена таких транзисторов относительно невысока, что связано с меньшей требовательностью технологического процесса в сравнении, например, с полевыми транзисторами. Кроме высокого быстродействия, биполярные гетеротранзисторы обеспечивают более высокое по сравнению с FET предельно допустимое напряжение. Эти транзисторы обладают хорошей линейностью, низкими фазовыми шумами, они легко согласуются.
Конструкция HBT
Как видно из рис. 11, структура биполярного гетеротранзистора — вертикальная.
Подложкой в данном случае служит полупроводниковая пластина арсенида галлия. Эпитаксиальные слои могут быть выращены различными способами, например, молекулярнолучевой эпитаксией (Molecular Beam Epitaxy).
Типовые вольт-амперные характеристики биполярного гетеротранзистора приведены на рис. 12.
Принцип работы биполярного гетеротранзистора
В отличие от рассмотренных выше активных приборов МИС СВЧ, биполярные гетеротранзисторы имеют вертикальную структуру. Благодаря своей конструкции они не только более высокочастотны, чем, например, MESFET, но и удобны для использования в усилителях мощности. Рассмотрим принцип функционирования HBT и попробуем понять, почему это стало возможным (рис. 13).
Как видно из рисунка, потенциальный барьер инжектированных дырок (ΔVp) и электронов (ΔVn) в контакте «эмиттер–база» отличается шириной зазора между AlGaAs эмиттером и GaAs базой, поэтому можно написать:
Это небольшое различие влияет на коэффициент In/Ip, где In — ток инжектированных электронов из эмиттера в базу, а Ip — нежелательный ток инжектированных дырок из базы в эмиттер. Эти токи могут быть выражены, применяя аппроксимацию Больцмана:
где q — заряд электрона; k — постоянная Больцмана; А — площадь контакта «эмиттер — база»; Dn — коэффициент диффузии электронов в базу; Dp — коэффициент диффузии дырок в эмиттер; W — ширина базы; NE — концентрация легирования эмиттера; Lp — длина диффузии дырок в эмиттер.
Из полученных формул получаем следующую зависимость для отношения рассматриваемых токов:
В результате протекания физических процессов старения надежность биполярных гетеротранзисторов может ухудшаться вследствие возникновения следующих факторов:
Технология изготовления HBT
Типовая технология изготовления биполярных гетеротранзисторов состоит из нескольких этапов травления для открытия нужных областей и формирования электрических контактов на каждом слое. В заключение устройство изолируется и на нем формируются требуемые межсоединения.
Базовые шаги техпроцесса показаны на рис. 14.
Типы GaAs МИС и их надежность
Как говорилось выше, монолитные микроволновые интегральные схемы используются в спутниковых системах, поэтому к ним предъявляются требования как можно меньшей массы и размеров, высокой надежности, небольшой цены. Эти микросхемы используются в том случае, когда паразитные реактивности в гибридных интегральных микросхемах снижают качество устройства ниже предельно допустимого уровня, поэтому основной областью применения монолитных микросхем являются устройства, работающие в диапазонах СВЧ. Примерами систем, реализуемых на монолитных ИС, могут являться приемники и передатчики для систем коммуникаций, фазированные антенные решетки, в которых требуется обеспечить небольшие размеры и однородные характеристики схем, а также датчики и радары, работающие на высоких частотах. Наибольшую долю рынка занимают среди МИС микроволновые приемники и передатчики, упрощенные схемы которых указаны на рис. 15–16.
В приведенных обеих схемах фазовращатель может быть размещен в локальном генераторе (ЛГ), на входе или выходе системы. Он необходим для того, чтобы система могла выполнять функцию таким образом, как если бы каждая схема была связана с излучающим элементом фазированной антенной решетки (ФАР). Для других применений схема не изменяется за исключением удаления фазовращателя. Пример одного из монолитных приемников диапазона 30 ГГц показан на рис. 17.
Хотя высокий уровень интеграции приемника, показанного на рисунке, снижает затраты на корпусирование и межсоединения, такой уровень интеграции не является необходимым во многих случаях. Наоборот, каждый функциональный блок системы обычно производится на индивидуальном кристалле, что позволяет вести оптимизацию материала и параметров устройства для конкретного применения. Независимо от уровня взаимосвязи схем надежность целой системы зависит от надежности составных элементов, что видно при рассмотрении схемы приемника, показанной на рис. 15. Входной радиочастотный сигнал имеет очень низкий уровень мощности и может быть в некоторых случаях полностью закрыт шумами. Малошумящий усилитель (МШУ) усиливает принимаемый сигнал, внося в то же время небольшой собственный шум. Если усиление МШУ достаточно велико, его шумовой вклад в шум системы весьма мал, поэтому шум, создаваемый последующими цепями, делится на коэффициент усиления МШУ. Это означает, что усиление и коэффициент шума малошумящего усилителя определяют шумовые характеристики приемника в целом. Если приемник обладает плохими шумовыми параметрами, он не сможет принять слабый сигнал. Принятый сигнал пропускается через узкополосный фильтр и через смеситель. ЛГ генерирует сигнал определенной частоты, который также поступает в смеситель. Смеситель объединяет два сигнала с помощью нелинейного устройства, такого как MESFET или диод, и генерирует сигнал на промежуточной частоте (ПЧ): (ƒРЧ–ƒЛГ) или (ƒЛГ–ƒРЧ), а также гармоники промежуточной частоты, входной радиочастоты (РЧ) и частоты локального генератора. Для выделения требуемых компонентов промежуточной частоты они должны быть отфильтрованы. Эффективность преобразования смесителя обычно зависит от мощности генератора. Кроме того, изменение частоты ЛГ приводит к сдвигу ПЧ, что может вызвать повышенное затухание сигнала в узкополосных фильтрах, являющихся частью смесителя. Если система управляет фазированной антенной решеткой, то направление и форма основного сигнала, излучаемого или принимаемого антенной, зависит от сдвига фазы и уровня мощности каждого передатчика или приемника. Относительная фаза каждого излучаемого элемента устанавливается с помощью фазовращателя. Таким образом, если сдвиг фазы сигнала, проходящего через цепи, отличается от предполагаемого, качество всей антенны ухудшается. Это означает, что изменение параметров одного из компонентов могут привести к отказу всей системы.
Фазовращатель, локальный генератор и смеситель являются типичными составными частями приемников и передатчиков. Реальные различия между этими двумя системамив усилителях. Если МШУ используется как приемник, то он должен быть способен усилить слабый сигнал до уровня, достаточного для работы смесителя, и для повышения помехозащищенности системы вносить как можно меньший собственный шум. В передатчике основным требованием является передаваемая мощность и КПД схемы. Поэтому усилитель мощности должен обеспечить усиление сигнала до требуемого уровня.
Малошумящие усилители мощности используются для усиления мощности радиочастотного сигнала. Почти во всех системах это выполняется при помощи транспроводимости MESFET и HEMT или усиления тока в HBT. Наиболее точная работа усилителя — при низких уровнях мощности. К сожалению, при повышении уровня мощности усилитель становится нелинейным. При работе в нелинейной области выходная мощность меньше, чем сумма входной мощности и коэффициента усиления усилителя в линейной области. На рис. 18 показана типичная характеристика усилителя. Точка, в которой выходная мощность падает на 1 дБ относительно линейного экстраполированного значения, называется «точка 1-дБ компрессии». Это значение различается для малосигнальных или линейных усилителей от этого же значения усилителя мощности. Необходимо учитывать, что это является также критерием различия маломощных и мощных транзисторов, поскольку транзистор может рассматриваться как простой несогласованный усилитель. Это различие важно при изучении механизмов отказов, необходимых для обеспечения надежности устройства.
Выбор точки смещения является очень важным для обеспечения требуемых параметров усилителя. В зависимости от режимов работы транзистора, формы выходного сигнала и, соответственно, КПД усилителя различаются усилители классов A, B и С. Усилители класса А являются линейными, однако их КПД слишком низок, в то время как усилители класса С нелинейны, но обладают самым высоким КПД.
Можно выделить следующие типы МИС:
Усилители мощности должны оперировать высокими входной и выходной мощностями. Максимальное напряжение входного сигнала ограничивается напряжением пробоя транзистора. Ток через каждый транзистор ограничивается сопротивлением затвора эмиттера. Омические потери преобразуются в тепло, что приводит к нагреванию и снижению надежности устройства. Для увеличения максимально допустимого тока устройства в мощных транзисторах соединяют множество затворов или эмиттеров параллельно. Такое параллельное включение увеличивает общую ширину затвора или площадь эмиттера и снижает сопротивление, однако в то же время увеличивает сложность согласования входного импеданса транзистора выходным импедансом предшествующего каскада. В дополнение к этому, для обеспечения рассеивания тепла создаются элементы свободного пространства вокруг транзистора, что увеличивает размеры устройства. Для обеспечения отвода тепла от транзисторов мощных усилителей подложку помещают на металлическую или алмазную несущую. КПД усилителей мощности является их критическим параметром. Для анализа работы усилителей обычно производят измерение S-параметров. Транзисторы обладают линейностью лишь при небольших уровнях мощности, а при ее возрастании их нелинейность сильно возрастает. Нелинейность мощных транзисторов создает интермодуляционные искажения, кратные частоте входного сигнала: 2ƒРЧ, 3ƒРЧ и т. д. Появление этих частот в согласованных цепях может привести к искажениям, паразитной генерации, снижению КПД и т. д. Интермодуляционные искажения определяются как коэффициент отношения мощности сигнала на частоте искажений к мощности полезного сигнала и обычно приводится в дБ. Кроме проблем, связанных с перегревом, усилители мощности имеют такие механизмы отказа, как ловушки горячих электронов, электромиграция и диффузия металла.
Так как малошумящие усилители используются для усиления принятых сигналов в приемниках, они разрабатываются для очень малых уровней мощностей. Поэтому температурные проблемы, а также проблемы высоких токов и напряжений, влияющих на надежность усилителя, не присущи МШУ. Наиболее важным показателем качества МШУ является коэффициент шума. Поскольку HEMT и PHEMT обладают наименьшими коэффициентами шума, именно они используются практически во всех МШУ. Для снижения коэффициента шума требуется небольшая длина затвора и низкое паразитное сопротивление между затвором и истоком. Типичными значениями длины затвора являются 0,1–0,25 мкм. Факторами ненадежности в таких транзисторах являются погружение металла затвора и диффузия омических контактов, которые возникают вследствие слишком малой длины затвора и соответственно малой толщины канала. Для снижения коэффициента шума системы в целом важно снизить потери в цепях, особенно перед первым каскадом МШУ. Это включает линию передачи от антенны к устройству. Кроме снижения потерь в цепях, шум может быть уменьшен при работе усилителя на низких температурах, токах и напряжениях. Наконец, коэффициент шума МШУ зависит от степени согласования цепей, которые проектируются с учетом минимизации коэффициента шума и максимизации усиления. Оптимальным с этой точки зрения является HEMT.
Смесители преобразуют входной сигнал на одной частоте в сигнал на другой частоте, что необходимо для фильтрации сдвига фазы и других операций обработки данных. Например, система может принимать данные в W-диапазоне (74–110 ГГц), но фильтры для W-диапазона имеют низкую добротность и высокие потери, которые приводят к деградации шумовых характеристик приемника. Поэтому выгодно сдвинуть частоту принимаемого сигнала, где возможно применение высокодобротных фильтров с низкими вносимыми потерями. В идеале эта операция выполняется без снижения амплитуды входного сигнала или внесения дополнительных шумов. Смесители могут быть выполнены либо на диодах, либо на одном из транзисторов. Рассмотрим смеситель на диоде, представленный на рис. 19.
Через зажимы диода проходят два сигнала: от локального генератора и от сигнала РЧ.
Обычно желаемая выходная частота (ƒРЧ–ƒЛГ) — промежуточная частота. Основным показателем качества для смесителей является отношение мощности ПЧ к мощности РЧ, которое называется потерями преобразования и указывается в дБ. Несколько причин могут вносить вклад в увеличение потерь преобразования. Во-первых, это может быть плохое согласование импедансов на РЧ и ПЧ-портах. Во-вторых, это ВАХ диода. В зависимости от требуемых параметров смесители могут быть выполнены как на одном диоде или полевом транзисторе, так и нескольких, вплоть до 8 диодов. Более сложные устройства используют симметричные цепи для нейтрализации нежелательных частотных компонентов и облегчения устранения шумов, созданных изменением амплитуды в локальном генераторе. Недостатком смесителей с несколькими диодами или полевыми транзисторами является необходимость увеличения выходной мощности локального генератора, что сложно получить на высоких частотах. Проблема надежности смесителя ассоциируется с генерацией нежелательных гармоник, которые могут привести к паразитной генерации других цепей микросхемы, искажениям сигнала, появлению 1/ƒ шума.
Генераторы вырабатывают высокочастотные периодические сигналы и используются в модуляторах, супергетеродинных приемниках, цепях фазовой автоподстройки частоты (ФАПЧ). В основном генератор может быть получен из любого усилителя посредством введения положительной обратной связи. Генераторы обычно строятся на базе МШУ с петлей обратной связи, вносящей задержку, кратную 2π. Кроме того, весьма распространенной является такая разновидность генератора, как ГУН (генератор, управляемый напряжением). Генератор разрабатывается таким образом, чтобы обеспечить требуемую емкостную и токовую нагрузку. Критическими параметрами генераторов являются долговременная нестабильность частоты, уровень шумов, выходной импеданс. Фазовый шум генератора — это кратковременная нестабильность генерируемого радиочастотного сигнала. При использовании генераторов в РЛС, а также в цифровых системах телекоммуникаций, необходимо обеспечивать определенный уровень фазового шума, в противном случае фазовый шум может привести к ошибке системы, а в случае передачи данных — к их искажению.
Шум может генерироваться различными механизмами. Во-первых, причиной может являться кинетическая энергия электронов, которая пропорциональна температуре материала. Этот вид шума обычно называют тепловым шумом. Тепловой шум занимает очень широкую полосу, поэтому его часто называют белым шумом. Вторым типом шума, пропорционального 1/ƒ, является фликкер-шум. Он возникает в активных твердотельных устройствах вследствие генерации и рекомбинации основных носителей на поверхности полупроводника. Примерный спектр шума показан на рис. 20.
Для минимизации фазового шума требуется использовать высокочастотные резонаторы. Кроме того, необходимо использовать транзисторы с низким фликкер-шумом. Использование высокодобротных резонаторов в МИС весьма затруднено, поскольку тонкопленочные элементы на арсенидгаллиевых подложках имеют высокие потери проводимости. Из всех рассмотренных транзисторов самым меньшим фликкер-шумом обладают биполярные гетеротранзисторы (HBT). Поэтому именно они чаще всего используются в генераторах. Воздействие температуры может приводить к дрейфу параметров транзисторов, что приводит к сдвигу частоты или срыву генерации. Температурная компенсация может быть построена с помощью варакторов или других управляемых элементов.
Вместо заключения
Постоянно растущие требования к объемам передаваемой информации с одновременным снижением массо-габаритных параметров устройств обеспечивают непрерывное динамичное развитие как конструкции МИС СВЧ, так и технологии их производства. Что же будет дальше? В каком направлении будет развиваться интегральная технология РЧ и СВЧ устройств? Очевидным глобальным направлением развития будут широкополосные и сверхширокополосные СВЧ-приборы. Что касается конструкции, то это, в первую очередь, совершенствование конструктивно-технологических особенностей МИС СВЧ, отработка технологии изготовления микросхем на подложках из карбида кремния (SiC) и нитрида галлия (GaN), создание серийной технологии изготовления микросхем на сапфировых подложках. Другим важным направлением развития микросхем этого класса является создание устройств с крайне высокой плотностью мощности: более 1 Вт на 1 мм длины затвора. Постоянное совершенствование конструкции и технологии МИС СВЧ, появление новых активных элементов микросхем, приводит к необходимости модификации моделей надежности, построению новых, включающих новые механизмы отказов, связанных с использованием новых материалов и технологий. Кроме того, несмотря на наличие хорошо отработанных методов статистического прогнозирования надежности, годных для применения к серийным микросхемам, методы оценки индивидуальной надежности, необходимые для сепарации единичных образцов МИС СВЧ, используемых в военной и космической технике, пока отработаны недостаточно хорошо. Среди таких методов можно выделить различные методы спектроскопии, с подсветкой вспомогательным источником и без нее. Однако многие из методов прогнозирования индивидуальной надежности МИС СВЧ являются разрушающими, что недопустимо при высокой стоимости микросхемы, другие же не обеспечивают требуемую достоверность. В такой ситуации встает задача: оценить надежность конкретного экземпляра устройства по результатам неразрушающих измерений каких-либо его электрофизических параметров. Если в отношении проблемы выбора таких информативных параметров можно сказать, что она решена, то относительно наличия достоверных математических моделей на их основе этого сказать нельзя. Поэтому эта задача на данный момент является весьма актуальной и, вероятно, в скором времени будет решена.
